流片過程中的掩膜版管理是保證流片質量的關鍵，中清航科推出專業的掩膜版全生命周期管理服務。從掩膜版設計審核、制作跟蹤到存儲管理、復用規劃，提供一站式解決方案。其建立了恒溫恒濕的掩膜版存儲倉庫，配備先進的掩膜版檢測設備，定期對掩膜版進行質量檢查與維護，確保掩膜版的使用壽命延長 30%。通過掩膜版復用管理系統，合理規劃掩膜版的使用次數與范圍，使客戶的掩膜版成本降低 25%。針對模擬芯片流片的特殊要求，中清航科組建了模擬電路團隊。該團隊熟悉高精度運放、電源管理芯片等模擬器件的流片工藝，能為客戶提供器件模型優化、版圖布局建議、工藝參數選擇等專業服務。通過與晶圓廠的模擬工藝合作，共同解決模擬芯片的匹配性、溫度漂移等關鍵問題，使模擬芯片的性能參數一致性提升 20%，某客戶的高精度 ADC 芯片通過該服務，流片后的線性誤差降低至 0.5LSB。中清航科代理超導量子比特流片，退相干時間優化30%。無錫臺積電 110nm流片代理

中小設計企業往往面臨流片經驗不足、資金有限等問題，中清航科推出針對性的創業扶持流片代理方案。為初創企業提供的 DFM 咨詢服務，幫助優化設計方案，降低流片風險；首輪流片享受 30% 的費用減免，同時提供分期付款選項，較長可分 6 期支付。在技術支持方面，配備專屬技術顧問，從設計初期到流片完成全程提供指導，包括工藝選擇建議、測試方案設計等。針對初創企業的產品迭代快特點，推出 “快速迭代流片服務”，同一產品的二次流片可復用部分掩膜版，降低迭代成本。此外，中清航科還聯合投資機構為質優項目提供投融資對接服務，形成 “流片 + 融資” 的生態支持。目前已服務超過 300 家初創企業，幫助其中 20 余家完成下一輪融資，流片項目的平均量產轉化率達到 65%。XMC 40nmSOI流片代理均價中清航科工藝移植服務，跨廠制程轉換良率損失＜3%。

流片過程的復雜性往往讓設計企業望而生畏，中清航科通過標準化流程再造，將流片環節拆解為 12 個關鍵節點，每個節點都配備專屬技術人員負責。在項目啟動階段，其 DFM 工程師會對客戶的 GDSII 文件進行多方面審查，重點檢查光刻層對齊、金屬線寬等可制造性問題，平均能提前發現 80% 的潛在生產隱患。進入晶圓廠生產階段，項目經理會建立每日進度通報機制，通過可視化平臺實時展示晶圓生產狀態，包括清洗、光刻、蝕刻等各工序的完成情況。針對突發狀況，中清航科建立了三級應急響應體系，普通問題 4 小時內給出解決方案，重大問題 24 小時內協調晶圓廠技術團隊共同處理，去年流片項目的按時交付率達到 98.7%，遠超行業平均水平。

流片代理服務中的專利布局支持是中清航科的特色服務之一。其知識產權團隊會在流片前對客戶的設計方案進行專利檢索與分析，識別潛在的專利侵權風險，并提供規避設計建議；流片完成后，協助客戶整理流片過程中的技術創新點，提供專利申請策略建議。通過該服務，客戶的專利申請通過率提升 35%，專利侵權風險降低 60%，某 AI 芯片客戶在其幫助下，成功申請了 15 項流片相關的發明專利。針對較低功耗芯片的流片需求，中清航科開發了專項工藝優化方案。通過與晶圓廠合作調整摻雜濃度、優化柵氧厚度等工藝參數，幫助客戶降低芯片的靜態功耗與動態功耗。引入較低功耗測試系統，能精確測量芯片在不同工作模式下的功耗特性，電流測量精度達到 10pA。已成功代理多個物聯網較低功耗芯片的流片項目，使產品的待機電流降低至 100nA 以下，續航能力提升 50%。流片稅務籌劃中清航科服務，合理減免關稅及增值稅。

成本控制是流片代理服務的核心競爭力之一，中清航科通過規模效應與技術優化實現成本精確管控。其整合行業內 800 余家設計公司的流片需求，形成規模化采購優勢，單批次流片成本較企業單獨采購降低 18% - 25%。在掩膜版制作環節，中清航科與全球掩膜廠合作開發共享掩膜方案，將中小客戶的掩膜成本分攤降低 60% 以上。對于試產階段的小批量流片，推出多項目晶圓（MPW）拼片服務，支持同一晶圓上集成 20 - 50 個不同設計方案，使客戶的首輪流片成本控制在 10 萬元以內。此外，其成本核算團隊會為每個項目提供詳細的成本分析報告，明確各項費用構成，并給出成本優化建議，幫助客戶在保證質量的前提下實現效益較大化。中清航科提供IP復用流片方案，掩膜成本再降25%。常州TSMC MPW流片代理

中清航科NTO服務，新工藝節點首跑成功率98.2%。無錫臺積電 110nm流片代理

特殊工藝芯片的流片需要匹配專業的晶圓廠資源，中清航科憑借多年積累，構建起覆蓋特殊工藝的流片代理網絡。在 MEMS 芯片領域，與全球 MEMS 晶圓廠合作，可提供從晶圓鍵合、深硅刻蝕到釋放工藝的全流程流片服務，支持壓力傳感器、微鏡、射頻 MEMS 等產品，流片后的器件性能參數偏差控制在 5% 以內。針對化合物半導體，如 GaN、SiC 等，中清航科的技術團隊熟悉材料特性與工藝要求，能為客戶提供襯底選擇、外延生長參數優化等專業建議，已成功代理新能源汽車用 SiC 功率器件的流片項目，幫助客戶將器件的導通電阻降低 15%。在光電子芯片領域，與專業光電器件晶圓廠合作，支持 VCSEL、DFB 激光器等產品的流片，波長一致性控制在 ±1nm 以內。無錫臺積電 110nm流片代理