主要內容一類重要的光學元件。這一領域主要有以下幾方面的內容：① 薄膜的光學性質、力學性質以及其他有關性質的研究;② 薄膜的生長、薄膜的結構以及它們對薄膜性質的影響；③光學薄膜元件的設計、制備及其性能的測試等。◆ 光學薄膜的應用無處不在，從眼鏡鍍膜到手機，電腦，電視的液晶顯示再到LED照明等等，它充斥著我們生活的方方面面，并使我們的生活更加豐富多彩。◆ 光學薄膜的定義是：涉及光在傳播路徑過程中，附著在光學器件表面的厚度薄而均勻的介質膜層，通過分層介質膜層時的反射、透（折）射和偏振等特性，以達到我們想要的在某一或是多個波段范圍內的光的全部透過或光的全部反射或是光的偏振分離等各特殊形態的光。光學濾光膜用來進行光譜或其他光性分割，其種類多，結構復雜。南通名優光學膜維保

光學薄膜指通過物理化學方法在光學器件表面沉積的膜系，利用光的干涉效應改變光學特性，實現增透、反射、分光等功能。其應用始于20世紀30年代，現***用于光學及光電子領域。按功能可分為增透膜、高反膜、濾光膜等類型，材料分為金屬膜（如鋁、銀、金）和非金屬膜兩類，金屬膜常用于反射鏡，非金屬膜因穩定性高而應用更廣。光學薄膜通過控制膜層折射率與厚度實現光波干涉，單層膜可減少反射光，多層組合可擴展低反射率波帶。1961年，三層抗反射膜技術的提出***提升了寬波帶性能。制造技術包括熱電阻蒸鍍、電子束蒸發和濺射法，其中濺射法附著力比較好。隨著光電產業發展，光學薄膜在通訊、顯示、存儲等領域成為關鍵組件，如投影設備、光通訊濾波片等，其技術進步直接影響現代光學儀器的性能演進。江蘇名優光學膜均價這種濾光片的透過率對薄膜的損耗非常敏感，所以制備透過率很高、半寬度又很窄的濾光片是很困難的。

金屬反射膜的優點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點是光損大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層，組成金屬電介質反射膜。需要指出的是，金屬電介質射膜增加了某一波長（或者某一波區）的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點。全電介質反射膜是建立在多光束干涉基礎上的。與增透膜相反，在光學表面上鍍一層折射率高于基體材料的薄膜，就可以增加光學表面的反射率。**簡單的多層反射是由高、低折射率的二種材料交替蒸鍍而成的,每層膜的光學厚度為某一波長的四分一。在這種條件下，參加疊加的各界面上的反射光矢量，振動方向相同。合成振幅隨著薄膜層數的增加而增加。

由于上述原因，鋁膜的應用非常***。銀膜在可見光區和紅外區都有很高的反射率，而且在傾斜使用時引人的偏振效應也**小。但是蒸發的銀膜用作前表面鏡鍍層時卻因下列兩個原因受到嚴重限制:它與玻璃基片的豁附性很差;同時易受到硫化物的影響而失去光澤。曾試圖使用蒸發的一氧化硅或氟化鎂作為保護膜，但由于它們與銀的赫附性很差，沒有獲得成功。所以通常*用于短期作用的場合或作為后表面鏡的鍍層。金膜在紅外區的反射率很高，它的強度和穩定性比銀膜好，所以常用它作為紅外反射鏡。金膜與玻璃基片的附著性較差，為此常用鉻膜作為襯底層。如果在金膜的淀積過程中，輔之以離子束轟擊，則可顯著提高金膜與基片的附著力。常用的是前4種。光學反射膜用以增加鏡面反射率，常用來反光、折光和共振腔器件。

圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機基板上的硬件布局。兩個電子槍源位于基板兩邊，周圍是環形罩并被擋板覆蓋。離子源位于中間，光控窗口在離子源的前方。圖19.13示出真空室的頂部，真空室里有含6個圓形夾具的行星系統。夾具用于放置被鍍膜的光學元件。使用行星系統是保證被蒸發材料在夾具區域內均勻分布的優先方法。夾具繞公共軸旋轉，同時繞其自身軸旋轉。光控和晶控處于行星驅動機械裝置的中部，驅動軸遮擋晶控。背面的大開口通向附加的高真空泵。基底加熱系統由4個石英燈組成，真空室的兩邊各兩個。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質膜加以保護。南通名優光學膜維保

簡單的光學薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質薄層。南通名優光學膜維保

減反射膜又稱增透膜，它的主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等光學表面的反射光，從而增加這些元件的透光量，減少或消除系統的雜散光。光學薄膜**簡單的增透膜是單層膜，它是鍍在光學零件光學表面上的一層折射率較低的薄膜。當薄膜的折射率低于基體材料的折射率時,兩個界面的反射系數r1和r2具有 相同的位相變化。如果膜層的光學厚度是某一波長的四分之一，相鄰兩束光的光程差恰好為π,即振動方向相反，疊加的結果使光學表面對該波長的反射光減少。適當選擇膜層的折射率，使得r1和r2相等，這時光學表面的反射光可以完全消除。南通名優光學膜維保

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