光學(xué)薄膜按應(yīng)用分為反射膜、增透膜、濾光膜、光學(xué)保護(hù)膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4種。光學(xué)反射膜用以增加鏡面反射率,常用來制**光、折光和共振腔器件。光學(xué)增透膜沉積在光學(xué)元件表面,用以減少表面反射,增加光學(xué)系統(tǒng)透射,又稱減反射膜。光學(xué)濾光膜用來進(jìn)行光譜或其他光性分割,其種類多,結(jié)構(gòu)復(fù)雜。光學(xué)保護(hù)膜沉積在金屬或其他軟性易侵蝕材料或薄膜表面,用以增加其強(qiáng)度或穩(wěn)定性,改進(jìn)光學(xué)性質(zhì)。最常見的是金屬鏡面的保護(hù)膜。常見的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。啟東智能光學(xué)膜批量定制
它可分為增透膜、高反膜、濾光膜、分光膜、偏振與消偏振膜等。光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代。現(xiàn)代,光學(xué)薄膜已***用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學(xué)儀器。表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì),也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。1.利用光線的干涉效應(yīng),當(dāng)光線入射於不同折射系數(shù)物質(zhì)所鍍成的薄膜,產(chǎn)生某種特殊光學(xué)特性。分類:光學(xué)薄膜就其所鍍材料之不同,大體可分為金屬膜和非金屬膜。通州區(qū)品牌光學(xué)膜供應(yīng)商波長分光膜又叫雙色分光膜,顧名思義它是按波長區(qū)域把光束分成兩部分的薄膜。
光電信息產(chǎn)業(yè)中**有發(fā)展前景的通訊、顯示和存儲(chǔ)三大類產(chǎn)品都離不開光學(xué)薄膜,如投影機(jī)、背投影電視機(jī)、數(shù)碼照相機(jī)、攝像機(jī)、DVD,以及光通訊中的DWDM、GFF濾光片等,光學(xué)薄膜的性能在很大程度上決定了這些產(chǎn)品的**終性能。光學(xué)薄膜正在突破傳統(tǒng)的范疇,越來越***地滲透到從空間探測器、集成電路、生物芯片、激光器件、液晶顯示到集成光學(xué)等各學(xué)科領(lǐng)域中,對科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步和全球經(jīng)濟(jì)的發(fā)展都起著重要的作用,研究光學(xué)薄膜物理特性及其技術(shù)已構(gòu)成現(xiàn)代科技的一個(gè)分支——薄膜光學(xué)。光學(xué)薄膜技術(shù)水平已成為衡量一個(gè)國家光電信息等高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)科技發(fā)展水平的關(guān)鍵技術(shù)之一。
薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā),或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量,傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量*約0.1eV。IAD沉積導(dǎo)致電離化蒸汽的直接沉積并且給正在生長的膜增加活化能,通常為50eV量級。離子源將束流從離子***指向基底表面和正在生長的薄膜來改善傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)的薄膜特性。薄膜的光學(xué)性質(zhì),如折射率、吸收和激光損傷閾值,主要依賴于膜層的顯微結(jié)構(gòu)。薄膜材料、殘余氣壓和基底溫度都可能影響薄膜的顯微結(jié)構(gòu)。如果蒸發(fā)沉積的原子在基底表面的遷移率低,則薄膜會(huì)含有微孔。當(dāng)薄膜暴露于潮濕的空氣時(shí),這些微孔逐漸被水汽所填充。 [3平板型偏振膜主要是利用在斜入射時(shí)由電介質(zhì)反射膜兩個(gè)偏振分量的反射帶帶寬的不同而制成的。
誘增透濾光片是在金屬膜兩邊匹配以適當(dāng)?shù)碾娊橘|(zhì)膜系,以增加勢透過率,減少反射,使通帶透過率增加的一類濾光片。雖然它的通帶性能不如全電介質(zhì)法-珀濾光片,卻有著很寬的截止特性,所以還是有很大的應(yīng)用價(jià)值。特別在紫外區(qū),一般電介質(zhì)材料吸收都比較大的情況下,它的優(yōu)越性就更明顯了。圖3的a、b、c分別給出法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片的典型曲線。分光膜根據(jù)一定的要求和一定的方式把光束分成兩部分的薄膜。分光膜主要包括波長分光膜、光強(qiáng)分光膜和偏振分光膜等幾類。薄膜的光學(xué)性質(zhì)、力學(xué)性質(zhì)以及其他有關(guān)性質(zhì)的研究;崇川區(qū)質(zhì)量光學(xué)膜供應(yīng)商
根據(jù)一定的要求和一定的方式把光束分成兩部分的薄膜。啟東智能光學(xué)膜批量定制
金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡單,工作的波長范圍寬;缺點(diǎn)是光損大,反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高,可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層,組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是,金屬電介質(zhì)射膜增加了某一波長(或者某一波區(qū))的反射率,卻破壞了金屬膜中性反射的特點(diǎn)。全電介質(zhì)反射膜是建立在多光束干涉基礎(chǔ)上的。與增透膜相反,在光學(xué)表面上鍍一層折射率高于基體材料的薄膜,就可以增加光學(xué)表面的反射率。**簡單的多層反射是由高、低折射率的二種材料交替蒸鍍而成的,每層膜的光學(xué)厚度為某一波長的四分一。在這種條件下,參加疊加的各界面上的反射光矢量,振動(dòng)方向相同。合成振幅隨著薄膜層數(shù)的增加而增加。啟東智能光學(xué)膜批量定制
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