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浙江光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

來源: 發布時間:2025-09-18

某revolution生物醫學研究機構致力于開發快速、precise的疾病診斷技術。在研發一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時,采用了德國 Polos 光刻機。利用其無掩模激光光刻技術,科研團隊成功制造出擁有復雜微通道網絡的芯片。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測試劑的混合及反應過程,極大提高了檢測的靈敏度和準確性。以往使用傳統光刻技術制備此類芯片,不only周期長,且精度難以保證。而 Polos 光刻機使制備周期縮短了近三分之一,助力該機構在tumor早期診斷研究上取得重大突破,相關成果已發表在國際authority醫學期刊上。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。未來技術儲備:持續研發光束整形與多材料兼容工藝,lead微納制造前沿。浙江光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

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針對碳化硅(SiC)功率模塊的柵極刻蝕難題,Polos 光刻機的激光直寫技術實現了 20nm 的邊緣粗糙度控制,較傳統光刻膠工藝提升 5 倍。某新能源汽車芯片廠商利用該設備,將 SiC MOSFET 的導通電阻降低 15%,開關損耗減少 20%,推動車載逆變器效率突破 99%。其靈活的圖案編輯功能支持快速驗證新型柵極結構,使器件研發周期從 12 周壓縮至 4 周,助力我國在第三代半導體領域實現彎道超車。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。河北POLOSBEAM光刻機光源波長405微米德國技術基因:融合精密光學與自動化控制,確保設備高穩定性與長壽命。

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低成本桌面化光刻:SPS POLOS μ的科研普惠!Polos系列在微流體領域實現復雜3D流道結構的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術制備跨尺度微盤陣列,研究細胞浸潤行為,為組織工程提供新策略3。Polos的高精度與靈活性支持仿生結構批量生產,推動醫療診斷芯片研發,如tumor篩查與藥物遞送系統的微型化64。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。

某生物物理實驗室利用 Polos 光刻機開發了基于壓阻效應的細胞力傳感器。其激光直寫技術在硅基底上制造出 5μm 厚的懸臂梁結構,傳感器的力分辨率達 10pN,較傳統 AFM 提升 10 倍。通過在懸臂梁表面刻制 100nm 的微柱陣列,實現了單個心肌細胞收縮力的實時監測,力信號信噪比提升 60%。該傳感器被用于心臟纖維化機制研究,成功捕捉到心肌細胞在病理狀態下的力學變化,相關數據為心肌修復藥物開發提供了關鍵依據。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。多材料兼容性:同步加工陶瓷 / PDMS / 金屬,微流控芯片集成電極與通道一步成型。

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在構建肝臟芯片的血管化網絡時,某生物工程團隊使用 Polos 光刻機實現了跨尺度結構制備。其無掩模技術在 200μm 的主血管與 5μm 的blood capillary間precise銜接,血管內皮細胞貼壁率達 95%,較傳統光刻提升 30%。通過輸入 CT 掃描的真實肝臟血管數據,芯片成功模擬門靜脈與肝竇的血流梯度,使肝細胞功能維持時間從 7 天延長至 21 天。該技術為藥物肝毒性測試提供了接近體內環境的模型,某制藥公司使用后將候選藥物篩選周期縮短 40%,相關成果登上《Lab on a Chip》封面。緊湊桌面設計:Polos-BESM系統only占桌面空間,適合實驗室高效原型開發。上海BEAM-XL光刻機分辨率1.5微米

德國 SPS Polos:深耕微納加工 35 年,專注半導體與生命科學領域,全球布局 6 大技術中心,服務 500 + 科研機構。浙江光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米

微流體芯片制造的core工具!Polos光刻機可加工80 μm直徑的開環諧振器和2 μm叉指電極,適用于傳感器與執行器開發。結合雙光子聚合技術(如Nanoscribe的2PP工藝),用戶可擴展至3D微納結構打印,為微型機器人及光學超材料提供多維度解決方案37。其與Lab14集團的協同合作,進一步推動工業級光學封裝技術創新3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統等各個領域。該系統的經濟高效性使其優勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫療公司提供了利用其功能的機會。浙江光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米