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德國高分辨率灰度光刻3D打印

來源: 發布時間:2025-09-10

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及非常廣的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明制備各種復雜的微納米結構,滿足不同應用領域的需求。德國高分辨率灰度光刻3D打印

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近年來,利用雙光子聚合對聚合物類傳統光刻膠的3D飛秒激光打印技術已日臻成熟,其高精度、高度可設計性和維度可控性已經在平行技術中排名在前。與此同時,如何更有效地將微納結構功能化,也逐漸成為各種微納加工技術的研究重點。在現階段,對于3D飛秒激光打印技術而言,具體來說就是利用其加工的高度可設計性來實現微納結構的功能化和芯片化,并使這些結構能夠更好地集成器件,從而達到理想的應用目的。微凹透鏡陣列結構是光學器件中的一種常見組件,具有較強的聚焦和成像能力。以往制備此類結構的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制,傳統的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結構,這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上,會產生場曲。在商業生產中,為了消除場曲這種光學像差,只能在后續光路中引入場鏡組來進行校正,從而增加了器件復雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設計一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲。

如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,以實現對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統,雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印特別有效的技術,其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級,并可達到光學質量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及非常普遍的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您揭秘雙光子灰度光刻系統的應用。

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超高速灰度光刻技術是一項帶領科技發展的重大突破,為我們帶來了無限可能。這項技術的出現,將徹底改變我們對光刻的認知,為各行各業帶來了巨大的創新機遇。超高速灰度光刻技術主要是利用高能激光束對材料進行精確的刻蝕,從而實現微米級甚至納米級的精細加工。相比傳統的光刻技術,超高速灰度光刻技術具有更高的加工速度和更精確的刻蝕效果。這意味著我們可以在更短的時間內完成更復雜的加工任務,提高了生產效率。超高速灰度光刻技術在電子、光電子、生物醫藥等領域具有廣泛的應用前景。在電子領域,它可以用于制造更小、更快的芯片和電路板,推動電子產品的迭代升級。在光電子領域,它可以用于制造高精度的光學元件,提高光學設備的性能。在生物醫藥領域,它可以用于制造微型生物芯片和生物傳感器,實現更精確的醫學診斷。Nanoscribe中國分公司-納糯三維帶您一起了解更多關于雙光子灰度光刻微納打印系統的內容。北京德國灰度光刻三維光刻

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Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。基于2PP微納加工技術方面的專業知識,Nanoscribe為頂端科學研究和工業創新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。“我們非常期待加入CELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造**,一直致力于開發和生產和無掩模光刻系統,以及自研發的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創新科技企業的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。德國高分辨率灰度光刻3D打印