B潔凈室溫度20-26℃，相對濕度45－65％；GMP粉劑車間濕度在50％左右為宜；電子車間濕度略高以免產生靜電。C潔凈室的噪聲≤65dB（A）；D潔凈室內的新鮮空氣量應取下列二項中的值:1補償室內排風量和保持室內正壓值所需新鮮空氣量之和。2保證供給潔凈室內每人每小時的新鮮空氣量不小于40m3/h。E潔凈室的照明配電照度一般采用350LXF凈化原 理? 氣流→粗效過濾→中效過濾→風機送風→管道→高效過濾→吹入房間→帶走塵埃細菌等顆粒→回風百葉窗→粗效過濾重復以上過程，即可達到凈化目的溫度過高可能導致設備熱膨脹，影響加工精度；濕度過低則易產生靜電，吸附微粒。寧波藥品潔凈室

十萬級潔凈室很主要作用在于掌控產品所接觸大氣的潔凈度及溫濕度，使產品能在一個良好環境空間中生產、制造、測試，提升產品質量，是污染敏感產品重要的生產保證設施。十萬級潔凈室主要性能參數：溫度范圍：18℃~28℃，可調節。塵粒允許數（≥5μm）：20000個。濕度范圍：40%~85%，可調節。浮游菌數：≥500個/立方米。換氣次數：≥15次/小時。沉降菌數：≥10個/立方米。新風量：≥30立方/小時/人。檢驗方法：GB50591-2010靜壓差：≥5Pa（不同潔凈等級區域之間）。完美的外觀、合理的設計。靜壓差：≥10Pa(潔凈區域與非潔凈區域之間）。使用的安全及高可靠性。塵粒允許數（≥0.5μm）：3500000個。超靜音。可擴展性。寧波藥品潔凈室天花板采用盲板吊頂系統，由可拆卸的鋁合金盲板與高效過濾器組成，便于維護與更換過濾器。

潔凈室的氣流組織設計與送風方式潔凈室的氣流組織是決定潔凈度的因素，其設計需綜合考慮送風方式、風速、換氣次數等參數。主流送風方式包括垂直單向流（層流）與水平單向流：垂直單向流通過高效過濾器頂送、地面回風，形成垂直向下的均勻氣流，適用于ISO1-5級潔凈室（如半導體光刻車間）；水平單向流則通過側墻高效過濾器送風、對側墻回風，適用于長條形潔凈室（如電子裝配線）。對于ISO6-9級潔凈室，通常采用非單向流（亂流）設計，通過高效過濾器頂送、四周回風，使空氣在室內充分混合，降低微粒濃度。風速控制方面，ISO1級潔凈室需保持0.3-0.5m/s的層流風速，以確保微粒被快速帶走；而亂流潔凈室的風速則控制在0.15-0.25m/s，避免因風速過高導致微粒飛揚。換氣次數方面，ISO1級潔凈室需每小時換氣400-600次，ISO9級則需10-15次，通過高換氣率稀釋室內污染物濃度。

潔凈室在食品工業中的重要性隨著人們對食品安全和品質的要求不斷提高，食品工業對生產環境的控制也越來越嚴格。潔凈室作為一種重要的環境控制手段，在食品工業中發揮著不可替代的作用。首先，潔凈室能夠提供高潔凈度的環境，有效防止微生物、塵埃等污染物的侵入。在食品加工過程中，這些污染物是導致食品變質、主要原因之一。通過潔凈室的嚴格控制，食品加工企業可以確保產品的衛生質量，提高產品的保質期和安全性。其次，潔凈室還能為食品加工提供恒溫、恒濕的環境。在不同的食品加工過程中，溫度和濕度的控制對于產品的品質和口感至關重要。潔凈室通過先進的空調系統和環境控制系統，能夠實現精確的溫度和濕度控制，為食品加工提供好的環境條件。此外，潔凈室還能提高食品加工的效率和質量。在潔凈度極高的環境中，機器設備的運行更加穩定，產品的質量和產量也更加可靠。同時，潔凈室還能有效降低生產過程中的能耗和資源消耗，符合當前綠色、可持續發展的趨勢。總之，潔凈室在食品工業中發揮著不可替代的作用，為食品安全和品質提供了有力保障。隨著食品工業的不斷發展和人們對食品安全意識的提高，潔凈室的應用將更加深入。中沃電子潔凈室，為光學元件生產保駕護航。

潔凈室的溫濕度控制與靜電防護措施潔凈室需同時控制溫濕度與靜電，以保障工藝穩定性與產品安全。溫濕度控制方面，半導體制造通常要求溫度22℃±1℃、濕度45%RH±5%RH：溫度過高可能導致設備熱膨脹，影響加工精度；濕度過低則易產生靜電，吸附微粒；而生物醫藥潔凈室可能要求溫度18℃-26℃、濕度30%RH-70%RH，以適應不同藥品的儲存需求。靜電防護方面，潔凈室通過以下措施降低靜電風險：（1）地面鋪設防靜電地板（表面電阻1×10?-1×10?Ω），通過導電網絡將靜電導入大地；（2）墻面與設備外殼噴涂防靜電涂料（表面電阻＜1×1012Ω），減少靜電積累；（3）人員穿戴防靜電無塵服（通過導電纖維將靜電導出），并佩戴防靜電手環（電阻1MΩ±10%），接觸設備前需觸摸接地柱釋放靜電；（4）空氣處理系統配置離子風機，通過電離空氣產生正負離子，中和物體表面靜電。例如，某液晶面板廠通過上述措施，將潔凈室內靜電電壓從＞1000V降至＜100V，降低了面板生產中的靜電擊穿率。潔凈室照明設計，中沃電子兼顧節能與實用。寧波藥品潔凈室

定制化潔凈室方案，中沃電子滿足多元需求。寧波藥品潔凈室

潔凈室在半導體制造中的關鍵作用半導體制造對潔凈度的要求堪稱嚴苛，潔凈室是保障芯片良率的設施。在晶圓加工過程中，光刻、蝕刻、薄膜沉積等工序需在ISO1-3級潔凈室中進行，因為空氣中微粒會直接污染晶圓表面，導致電路短路或開路。例如，某12英寸晶圓廠的光刻車間采用ISO1級潔凈室，通過垂直單向流（層流）設計，使空氣以0.45m/s的速度垂直向動，將微粒攜帶至地面回風口；同時，車間內所有設備（如光刻機、涂膠顯影機）均采用密閉設計，避免內部機械運動產生微粒外泄。數據顯示，在普通環境中生產的芯片良率30%，而在ISO1級潔凈室中可提升至85%以上。此外，潔凈室還需控制化學污染物（如氨氣、有機蒸氣），通過活性炭過濾器與化學過濾系統，將關鍵工序區域的化學污染物濃度控制在ppb（十億分之一）級別，防止對晶圓表面造成化學腐蝕。寧波藥品潔凈室