所述功能切換口3外部并聯有高純水輸入管線1和沉淀劑輸入管線2。所述二級過濾罐13的底部設有廢液出口20。所述一級過濾罐16和二級過濾罐13內部均懸設有攔截固體成分的過濾筒。本實施例中,所述一級過濾罐16和二級過濾罐13的結構相同,以一級過濾罐16為例,由外殼1601、懸設于外殼1601內的過濾筒、扣裝于過濾筒頂部的壓蓋1602組成。所述壓蓋1602中心設有對應進料管路15的通孔。所述過濾筒由均勻布設多孔1606的支撐筒體1605、設于支撐筒體1605內表面的金屬濾網1604、設于金屬濾網1604表面的纖維濾布1603組成。所述支撐筒體1605的上沿伸出外殼1601頂部并利用水平翻邊支撐于外殼1601上表面,所述金屬濾網1604的上沿設有與支撐筒體1605的水平翻邊扣合的定位翻邊。所述支撐筒體1605的底面為向筒體內側凹陷的錐面1607,增加了過濾面積,提高了過濾效率。所述攪拌釜10設有ph計(圖中省略),用于檢測溶液ph值。攪拌釜10由釜體8、設于釜體8頂部的攪拌電機4、與攪拌電機4連接的攪拌桿11、設于攪拌桿11末端的攪拌槳12組成,所述攪拌槳12為u字形,釜體8外表面設有調溫水套9。工作過程:1、先向攪拌釜10內投入光刻膠廢剝離液,再向釜內輸入高純水,兩者在攪拌釜10內攪拌均勻。哪家的剝離液配方比較好?惠州顯示面板用剝離液
縮短了某些領域與發達國家技術上的差距.騰田化學技術團隊具有豐富分析及研發經驗,徹底解決了化工領域如金屬表面處理劑、清洗劑、金屬加工液、橡膠、塑料、膠黏劑、涂料、水處理藥劑、紡織印染助劑等企業配方改進、新產品研發的切實問題;正是騰田化學質量的口碑,贏得多個領域**企業關注,成功地建立精細化學品研發平臺;在騰田化學共同努力下,民營企業不斷技術創新,有利于化工行業的良好發展.騰田化學溫馨提示:當你有產品分析數據,但是無法后期生產的時候,可以聯系騰田化學科技(上海)有限公司。騰田化學的業務范圍:1.各類膠粘劑產品配方分析以及產品研發,為客戶提供產品配方及生產;2.涂料及油墨產品配方分析,為客戶提供產品配方及生產;3.塑料和橡膠制品配方分析,包括各種助劑,如增塑劑、抗氧劑、阻燃劑等,為客戶提供產品配方及生產;4.水泥緩凝劑分析:民用和各類工業用水泥緩凝劑,金屬表面處理劑等,為客戶提供產品配方及生產;5.工業故障分析診斷,提供解決方案;未知物剖析,各種未知固體和液體,膏體等,為客戶提供產品配方及生產;6.日化產品:洗發、護發、護膚產品等;光亮劑、殺蟲劑、空氣清新劑等,為客戶提供產品配方及生產。合肥格林達剝離液供應商剝離液,高效去除光刻膠,不留痕跡。
光電行業的大力發展,致使剝離液被國內外研究人員所關注及研究,雖然在**網及技術網上對剝離液的闡述較少,但當前國內與國外均在剝離液廢液如何利用及處置方面有了一定的成果,。美國專利US7273560公布了包含單乙醇胺與二乙二醇單丁醚組合的光刻膠剝離液廢液中含有、77%的二乙二醇單丁醚、3%的光刻膠和。現有技術***采用的光刻膠剝離液廢液回收方法通常是通過薄膜蒸發器回收大部分的有機成分,回收得到的有機組分或再經脫色脫水等處理后可再次作為光刻膠剝離液應用。這種方法雖然流程簡便,但在使用薄膜蒸發器蒸發溶劑過程中,光刻膠濃度達到一定程度后其傳熱傳質效率快速下降,使溶劑回收效率大為降低,處理能耗***升高。且除去溶劑后殘留的光刻膠等物質需要定期將其***干凈,進而影響工藝操作效率。另外,美國專利US公布了在蝕刻產線上設置過濾回收裝置,通過粗孔和細孔過濾器的兩步組合過濾法除去光刻膠,將光刻膠剝離液在產線上循環使用。
所述抽真空氣體修飾法包括如下步驟:將將襯底和光刻膠抗粘劑置于密閉空間中,對密閉空間抽真空至光刻膠抗粘層氣化,保持1分鐘以上,直接取出襯底。進一步的改進,所述襯底為硅、氧化硅、石英、玻璃、氮化硅、碳化硅、鈮酸鋰、金剛石、藍寶石或ito制成。進一步的改進,所述步驟(2)對襯底修飾的試劑包括hmds和十三氟正辛基硅烷;對襯底修飾的試劑鍍在襯底表面。進一步的改進,所述所述光刻膠包括pmma,zep,瑞紅膠,az膠,納米壓印膠和光固化膠。進一步的改進,所述光刻膠厚度為1nm-100mm進一步的改進,所述光刻膠上加工出所需結構的輪廓的方法為電子束曝光,離子束曝光,聚焦離子束曝光,重離子曝光,x射線曝光,等離子體刻蝕,紫外光刻,極紫外光刻,激光直寫或納米壓印。進一步的改進,所述黏貼層為pdms,紫外固化膠,熱釋放膠,高溫膠帶,普通膠帶,pva,纖維素或ab膠。上述選擇性剝離光刻膠制備微納結構的方法制備的微納結構用于微納制造,光學領域,電學,生物領域,mems領域,nems領域。本發明的有益效果在于,解決了現有負性光刻膠加工效率低,難于去膠,去膠過程中損傷襯底,對于跨尺度結構的加工過程中加工精度和效率的矛盾等問題。國內那里可以買到效果好的剝離液;
技術領域:本發明涉及一種選擇性剝離光刻膠制備微納結構的方法,可用于微納制造,光學領域,電學,生物領域,mems領域,nems領域。技術背景:微納制造技術是衡量一個國家制造水平的重要標志,對提高人們的生活水平,促進產業發展與經濟增長,保障**安全等方法發揮著重要作用,微納制造技術是微傳感器、微執行器、微結構和功能微納系統制造的基本手段和重要基礎。基于半導體制造工藝的光刻技術是**常用的手段之一。對于納米孔的加工,常用的手段是先利用曝光負性光刻膠并顯影后得到微納尺度的柱狀結構,再通過金屬的沉積和溶膠實現圖形反轉從而得到所需要的納米孔。然而傳統的方法由于光刻過程中的散焦及臨近效應等會造成曝光后的微納結構側壁呈現一定的角度(如正梯形截面),這會造成蒸發過程中的掛壁嚴重從而使lift-off困難。同時由于我們常用的高分辨的負膠如hsq,在去膠的過程中需要用到危險的氫氟酸,而氫氟酸常常會腐蝕石英,氧化硅等襯底從而影響器件性能,特別的,對于跨尺度高精度納米結構的制備在加工效率和加工能力方面面臨著很大的挑戰。剝離液的正確使用方式;銅陵格林達剝離液什么價格
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用顯微鏡觀察也難以看出的程度)3:有少量殘渣4:基本能剝離,但一部分殘渣多5:一半以上能剝離,但一部分殘渣多6:基本不能剝離,但一部分剝離7:不能剝離【表2】由該結果可知,在含有溶纖劑的抗蝕劑的剝離液中使用氫氧化鉀代替氫氧化鈉的本發明組成,與使用氫氧化鈉的比較組成相比,即使l/s狹窄,也能除去抗蝕劑。(3)剝離性能的評價方法將液溫設為50℃的各剝離液使用噴涂裝置向上述試驗片實施剝離處理,將試驗片的粘性部分的dfr以目視全部面積的90%以上被剝離的時刻作為剝離時間。另外,剝離片尺寸(長邊)是采集噴涂停止后附著于設置于試驗基板固定用的臺上的排渣用網眼的剝離片以目視實施的。此時的噴涂裝置的條件設為全錐噴嘴且流量5l/min、壓力。將其結果示于表3。(4)金屬的浸蝕性的評價方法利用上述評價方法實施將噴涂運行時間固定在10分鐘的處理。其后,將基板的鍍銅部位通過電子顯微鏡(日立高新技術制:s-3400n)按照以下的評價基準評價表面形狀。其結果也示于表3。<金屬浸蝕性的評價基準>(分數)(內容)1:沒有變化2:極略微有變化(用顯微鏡觀察也難以看出的程度)3:略有變化4:發生***變色【表3】剝離時間(sec)剝離片尺寸。惠州顯示面板用剝離液