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上海銀蝕刻液剝離液配方技術(shù)

來源: 發(fā)布時間:2025-09-18

所述的鏈胺為乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、異丙醇胺、甲基二乙醇胺、amp-95中的任意一種或多種。技術(shù)方案中,所述的環(huán)胺為氨乙基哌嗪、羥乙基哌嗪、氨乙基嗎啉中的任意一種或多種。技術(shù)方案中,所述的緩蝕劑為三唑類物質(zhì)。的技術(shù)方案中,所述的緩蝕劑為苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑中的任意一種。技術(shù)方案中,所述的潤濕劑含有羥基。技術(shù)方案中,所述的潤濕劑為聚乙二醇、甘油中的任意一種。經(jīng)由上述的技術(shù)方案可知,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下有益效果:本發(fā)明中加入環(huán)胺與鏈胺,能夠滲透、斷開光刻膠分子間弱結(jié)合力,能夠快速、有效地溶解光刻膠,而配方中加入潤濕劑,能夠有效地減少接觸角,增強親水性,使得剝離液親水性良好,能快速高效地剝離溶解光刻膠。附圖說明:圖1為配方一和配方二的剝離液滴落在平面時兩者的接觸角對比圖。圖2為配方一和配方二的剝離液應(yīng)用是光刻膠的殘留量對比圖。具體實施方式現(xiàn)有技術(shù)中的剝離液其水置換能力較差,容易造成面板邊緣光刻膠殘留,本申請經(jīng)過大量的試驗,創(chuàng)造性的發(fā)現(xiàn),在剝離液中加入潤濕劑,能夠使固體物料(高世代面板)更易被水浸濕的物質(zhì),通過降低其表面張力或界面張力,使水能展開在固體物料。哪家公司的剝離液的口碑比較好?上海銀蝕刻液剝離液配方技術(shù)

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本發(fā)明采用一種選擇性剝離制備微納結(jié)構(gòu)的新方法,可制備出任意負性光刻膠所能制備的任意圖形且加工效率比傳統(tǒng)的加工方法提高了上萬倍(以直徑為105nm的結(jié)構(gòu)為例),特別是為跨尺度結(jié)構(gòu)的加工,為光學(xué)領(lǐng)域,電學(xué)領(lǐng)域,聲學(xué)領(lǐng)域,生物領(lǐng)域,mem制造,nems制造,集成電路等領(lǐng)域提供了一種新的解決方案。本發(fā)明的技術(shù)方案如下:一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法,包括以下步驟:步驟一、提供襯底,并清洗;步驟二、對襯底進行修飾降低光刻膠與襯底的粘附力;步驟三、襯底上旋涂光刻膠得到薄膜;步驟四、在光刻膠上加工出所需結(jié)構(gòu)的輪廓;所述所需結(jié)構(gòu)包括若干**單元,**單元外周形成有閉合的縫隙;步驟五、在光刻膠上覆蓋一層黏貼層;步驟六、自所需結(jié)構(gòu)以外的光刻膠的邊沿處揭開黏貼層,黏貼層將所需結(jié)構(gòu)以外的光刻膠粘走,留下所需結(jié)構(gòu)即襯底上留下的微納結(jié)構(gòu);黏貼層與光刻膠的粘附力a大于光刻膠與襯底的粘附力b。進一步的改進,在供體襯底表面修飾光刻膠抗粘層為高溫氣體修飾法或抽真空氣體修飾法;高溫氣體修飾法包括如下步驟:將襯底和光刻膠抗粘劑置于密閉空間中,其中,密閉空間的溫度控制在60℃-800℃之間,保溫1分鐘以上,直接取出襯底。紹興京東方用的蝕刻液剝離液銷售廠博洋剝離液供應(yīng)廠商,歡迎隨時來電咨詢!

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根據(jù)對華新光電、日東集團的剝離液成分進行分析得知,剝離液主要成分為單乙醇胺(MEA),二甲亞砜(DMS0)和二乙二醇單丁醚(BDG),其中市場上大部分以二乙二醇單丁醚居多。剝離液廢液多呈深黑色且氣味大,由以下幾種組分構(gòu)成:(1)、1~20%重量的醇胺或者酰胺,以伯胺和腫胺為主。(2)、10~60%重量的醇;(3)、10~50%重量的水;(4)、5~50%重量的極性有機溶劑,如;N-甲基吡咯烷酮(NMP),環(huán)丁基砜、二甲基亞砜(DMSO)、二甲基乙酰胺、N-乙基甲酰胺等。(5)、~3%重量的金屬抗蝕劑,如2-氨基環(huán)己醇、2-氨基環(huán)戊醇等。根據(jù)上述分析可以看出,剝離液中大部分是有機溶劑,可以加以回收資源化利用,或者將剝離廢液進行脫色凈化處理后再用于生產(chǎn)中,配成剝離液。當前國內(nèi)主要產(chǎn)生剝離液的廠家主要分布在天津及深圳一帶,均是高新技術(shù)發(fā)達區(qū)域,隨著國內(nèi)經(jīng)濟及城市的發(fā)展,剝離液產(chǎn)廢地點將越來越,也將引起環(huán)保的重視及關(guān)注。

添加劑中含有醇醚化合物、胺化合物、緩蝕劑以及潤濕劑;s3:將步驟s1的剝離液廢液與添加劑混合,重新制備剝離液新液,制備過程中加入酰胺化合物或醇醚化合物。光刻膠剝離液為純有機溶劑體系,廢液可通過蒸餾回收80-95%有效物,得出純化液體,而在上述制備方式中,純化液體所含的組分與添加劑所含的組分之間是具有相重復(fù)的,可以認為,添加劑是根據(jù)已知的剝離液新液的組分進行配制的,添加劑可以是對純化液體與剝離液新液之間的組分的差別而進行的添加、補充,使得純化液體和添加劑混合后,能夠具有與剝離液新液相同的組分。那么,可以知道,在預(yù)先知道剝離液新液的組分的基礎(chǔ)上,可以通過預(yù)先配制含有剝離液新液中的某些組分的添加劑,然后在制備回收的剝離液廢液得出純化液體時,可以將添加劑加入純化液體中,再進行質(zhì)量分數(shù)的調(diào)節(jié)。純化液體是將剝離液廢液進行加壓、蒸餾,去除剝離液廢液中的非剝離液新液的組分的物質(zhì),然后得出的純化液體,純化液體中所含的組分物質(zhì),都是剝離液新液所含有的組分物質(zhì)。進一步技術(shù)方案中,所述的步驟1中得出的純化液體中含有的酰胺化合物的質(zhì)量分為:45%-60%;含有的醇醚化合物的質(zhì)量分為:35%-50%。使用剝離液,輕松剝離各種材料。

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本申請涉及半導(dǎo)體工藝技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種剝離液機臺及其工作方法。背景技術(shù):剝離(lift-off)工藝通常用于薄膜晶體管(thinfilmtransistor)制程中的光罩縮減,lift-off先形成光阻并圖案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同時,沉積在光阻上的膜層也被剝離,從而完成膜層的圖形化,通過該制程可以實現(xiàn)兩次光刻合并為一次以達到光罩縮減的目的。現(xiàn)有技術(shù)中,由于光阻上沉積了薄膜(該薄膜材料可以為金屬,ito(氧化銦錫)等用于制備tft的膜層),在剝離光阻的同時薄膜碎屑被帶入剝離液(stripper)中,大量的薄膜碎屑將會導(dǎo)致剝離液機臺中的過濾器(filter)堵塞,從而導(dǎo)致機臺無法使用,并且需要停止所有剝離液機臺的工作,待將filter清理后再次啟動,降低了生產(chǎn)效率。技術(shù)實現(xiàn)要素:本申請實施例提供一種剝離液機臺及其工作方法,可以提高生產(chǎn)效率。本申請實施例提供一種剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應(yīng)連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設(shè)置通過管道與當前級腔室對應(yīng)的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在所述管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門開關(guān)。在一些實施例中。如何挑選一款適合自己公司的剝離液?南通京東方用的蝕刻液剝離液費用

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所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,所述***管道包括多個***子管道,每一所述***子管道與一子過濾器連通,且所述多個***子管道與當前級腔室對應(yīng)的存儲箱連通。在一些實施例中,所述第二管道包括公共子管道及多個第二子管道,每一所述第二子管道與一子過濾器連通,每一所述第二子管道與所述公共子管道連通,所述公共子管道與所述下一級腔室連通。在一些實施例中,所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述***子管道上。在一些實施例中,所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述第二子管道上。在一些實施例中,所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述***子管道及每一所述第二子管道上。在一些實施例中,所述第二管道包括多個第三子管道,每一所述第三子管道與一子過濾器連通,且每一所述第三子管道與所述下一級腔室連通。在一些實施例中,所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述第三子管道上。本申請實施例還提供一種剝離液機臺的工作方法,包括:將多級腔室順序排列,按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級向剝離基板提供剝離液;將來自于當前級腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲于當前級腔室相應(yīng)的存儲箱中,所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑。上海銀蝕刻液剝離液配方技術(shù)