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江蘇顯示面板用剝離液推薦貨源

來源: 發(fā)布時間:2025-09-19

本申請涉及半導體工藝技術領域,具體涉及一種剝離液機臺及其工作方法。背景技術:剝離(lift-off)工藝通常用于薄膜晶體管(thinfilmtransistor)制程中的光罩縮減,lift-off先形成光阻并圖案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同時,沉積在光阻上的膜層也被剝離,從而完成膜層的圖形化,通過該制程可以實現(xiàn)兩次光刻合并為一次以達到光罩縮減的目的。現(xiàn)有技術中,由于光阻上沉積了薄膜(該薄膜材料可以為金屬,ito(氧化銦錫)等用于制備tft的膜層),在剝離光阻的同時薄膜碎屑被帶入剝離液(stripper)中,大量的薄膜碎屑將會導致剝離液機臺中的過濾器(filter)堵塞,從而導致機臺無法使用,并且需要停止所有剝離液機臺的工作,待將filter清理后再次啟動,降低了生產(chǎn)效率。技術實現(xiàn)要素:本申請實施例提供一種剝離液機臺及其工作方法,可以提高生產(chǎn)效率。本申請實施例提供一種剝離液機臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應連接一存儲箱;過濾器,所述過濾器的一端設置通過***管道與當前級腔室對應的存儲箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在所述***管道或所述第二管道上設置有閥門開關。在一些實施例中。哪家剝離液質(zhì)量比較好一點?江蘇顯示面板用剝離液推薦貨源

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能夠除去抗蝕劑。用本發(fā)明剝離液處理施加有抗蝕劑的基材的條件沒有特別限定,例如,可以舉出在設為10~80℃的本發(fā)明剝離液中浸漬基材1~60分鐘左右的條件、將設為10~80℃的本發(fā)明剝離液向基材噴霧1~60分鐘左右的條件。需要說明的是,浸漬時,可以搖動基材,或?qū)Ρ景l(fā)明剝離液施加超聲波。抗蝕劑的種類沒有特別限定,可以是例如干膜抗蝕劑、液體抗蝕劑等中的任一種。干膜抗蝕劑的種類也沒有特別限定,例如推薦堿可溶型的干膜抗蝕劑。作為這樣的堿可溶型的干膜抗蝕劑,例如,可以舉出rd-1225(sap用25μm厚)(日立化成株式會社制)等。施加抗蝕劑的基材沒有特別限定,例如,可以舉出印刷布線板、半導體基板、平板顯示器、引線框中使用的各種金屬、合金所形成的、薄膜、基板、部件等。按照上述方式本發(fā)明剝離液能夠從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑,因此能夠在包括除去這樣的抗蝕劑的工序的印刷布線板、半導體基板、平板顯示器、引線框等的制造方法中使用。上述制造方法之中推薦包括從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑的工序的印刷布線板的制造方法,特別推薦基于半加成法的印刷布線板的制造方法。本發(fā)明剝離液能夠除去的線/間距(l/s)沒有特別限定。蘇州銅蝕刻液剝離液生產(chǎn)剝離液的技術指標哪家比較好?

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在生產(chǎn)方面,剝離液的純度對于應用領域有所限制,高純度剝離液生產(chǎn)工藝復雜,且對于生產(chǎn)設備、生產(chǎn)環(huán)境控制均有較高的要求,整體技術門檻較高。在資金方面,為取得競爭優(yōu)勢,剝離液生產(chǎn)企業(yè)需要在研發(fā)、技術、設備方面投入大量資金,因此為實現(xiàn)剝離液產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)所需的資金門檻相對較高。新思界產(chǎn)業(yè)分析人士表示,剝離液作為半導體制造的關鍵性濕電子化學品,在半導體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展背景下,剝離液市場需求攀升。就總體來看,剝離液雖然是一種關鍵化工原料,但由于需求量較少,因此市場規(guī)模偏小,生產(chǎn)企業(yè)由大型濕電子化學品主導,新進入企業(yè)難以尋求發(fā)展機遇。

能夠增強親水性,使得剝離液親水性良好,能快速高效地剝離溶解光刻膠。潤濕劑含有羥基,為聚乙二醇、甘油中的任意一種。下面通過具體實施例對本申請作進一步詳細說明。以下實施例對本申請進行進一步說明,不應理解為對本申請的限制。表一:兩種不同組分的剝離液配方一和配方二所采用的基礎組分基本相同,不同的是配方二中加入有潤濕劑,上述所描述的潤濕劑是用于增強親水性的,滴液與產(chǎn)品表面間的夾角為接觸角,接觸角可用來衡量潤濕程度,水滴角測試儀可測量接觸角,從潤濕角度考慮,接觸角<90°,且接觸角越小潤濕效果越好加入潤濕劑后的配方二所制得的剝離液,在滴落在高世代面板后,通過水滴角測試儀測接觸角,檢測圖如圖1所示,三次測試的接觸角如下表二:上述兩種不同組分的剝離液作接觸角測試接觸角配方一配方二測試一,加入潤濕劑后的配方二所制得的剝離液,其滴落在高世代面板后,其接觸角比未加入潤濕劑的配方一的剝離液潤濕效果更好;請參閱圖2所示,將配方一所制得的剝離液以及配方二所制得的剝離液進行光刻膠剝離,圖2中的陰影圓點為浸泡時間t1后光刻膠殘留,明顯地,可以看出配方二中t1時間后光刻膠殘留量小,而配方一中產(chǎn)品邊緣處光刻膠的殘留量大。剝離液可以用在什么地方;

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該方法包括:步驟110、將多級腔室順序排列,按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級向剝離基板提供剝離液;步驟120、將來自于當前級腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲于當前級腔室相應的存儲箱中,所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑;步驟130、使用當前級腔室相應的過濾器過濾來自當前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室;步驟140、若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關;步驟150、取出被阻塞的所述過濾器。若過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則可以關閉被阻塞的子過濾器的閥門,因此,步驟140還可以包括:若所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器,則關閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關。在上述實施例中,對各個實施例的描述都各有側重,某個實施例中沒有詳述的部分,可以參見其他實施例的相關描述。以上對本申請實施例進行了詳細介紹,本文中應用了具體個例對本申請的原理及實施方式進行了闡述,以上實施例的說明只是用于幫助理解本申請的技術方案及其思想;本領域的普通技術人員應當理解:其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改,或者對其中部分技術特征進行等同替換。蘇州博洋化學股份有限公司剝離液;紹興BOE蝕刻液剝離液供應

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從而可以在閥門開關60關閉后取下被阻塞的過濾器30進行清理并不會導致之后的下一級腔室102的剝離進程無法繼續(xù)。其中,腔室10用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級向玻璃基板分別提供剝離液;與多個腔室10分別對應連接的多個存儲箱20,各級腔室10分別通過管道與相應的存儲箱20連接,存儲箱20用于收集和存儲來自當前級腔室101的經(jīng)歷剝離制程的剝離液;過濾器30用于過濾來自當前級腔室101的存儲箱20的剝離液,并且過濾器30還可以通過管道與下一級腔室102連接,從而過濾器30可以將過濾后的剝離液輸送給下一級腔室102。各腔室10設計為適合進行剝離制程,用于向制程中的玻璃基板供給剝離液,具體結構可參考現(xiàn)有設計在此不再贅述。各級腔室10分別于相應的存儲箱20通過管道連接,腔室10中經(jīng)歷剝離制程后的剝離液可以經(jīng)管道輸送至存儲箱20中,由存儲箱20來收集和存儲。各級腔室10的存儲箱20分別與相應的過濾器30通過管道連接,經(jīng)存儲箱20處理后的剝離液再經(jīng)相應的過濾器30過濾后才經(jīng)管道輸送至下一級腔室102。本申請中,腔室10及過濾器30可以采用與現(xiàn)有技術相同的設計。處于剝離制程中的玻璃基板。江蘇顯示面板用剝離液推薦貨源