雙頻激光干涉儀在半導體光刻機定位系統中的關鍵作用

來源：發布時間：2025-09-18

在半導體制造領域，光刻機作為重要設備，其性能直接決定芯片的制造精度與質量。而定位系統則是光刻機實現高精度光刻的關鍵環節，其中，雙頻激光干涉儀發揮著無可替代的關鍵作用。隨著半導體技術不斷向更小制程邁進，對光刻機定位精度的要求愈發嚴苛，雙頻激光干涉儀也因此成為推動半導體產業發展的重要技術支撐。

雙頻激光干涉儀基于激光干涉原理，通過兩束頻率不同的激光產生干涉條紋，將位移變化轉化為干涉條紋的移動，進而實現對位置的精確測量。與傳統測量方式相比，雙頻激光干涉儀具有抗干擾能力強、測量精度高、動態響應快等明顯優勢。在半導體光刻機定位系統中，其能夠實時、精確地監測工作臺的位置和運動狀態，及時反饋誤差信息，為光刻機的控制系統提供精確數據，確保光刻過程中掩膜版與硅片之間的相對位置誤差控制在極小范圍內。

半導體芯片制造對定位精度的要求達到了納米甚至亞納米級別，任何微小的誤差都可能導致芯片性能下降甚至報廢。雙頻激光干涉儀憑借其極高的測量分辨率和精度，可有效補償光刻機在工作過程中因溫度變化、機械振動等因素產生的誤差，保證光刻圖案能夠準確地轉移到硅片上。此外，它還能對光刻機的運動部件進行動態性能檢測，優化運動控制算法，提升光刻機的整體工作效率和穩定性。

蘇州貝格納工業設備有限公司作為專注于高精度測量領域的企業，深刻認識到雙頻激光干涉儀等高精度測量技術對半導體等行業的重要性。公司致力于為客戶提供好的半導體、3C 電子、汽車、醫療、機床加工等行業的精密組件，涵蓋運動控制、視覺檢測、精密傳動、高精度反饋等一系列產品。針對單機自動化設備、自動化生產線以及智能工廠，貝格納提供整體解決方案。公司整合運動控制、視覺檢測、影響處理、鐳射測量、機械手、精密貼裝和精密壓合等技術，并配合軟件系統開發，為客戶打造具有競爭力的產品和服務。

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